哪里钼铌板材回收(铌丝回收)

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并且成形步骤在微观结构中引起大量缺陷，从而促进了再结晶和晶粒的不均匀生长。因此，已知的溅射靶材在层均匀性，铌丝行为的均匀性以及避免不希望的局部初期熔化方面不能满足日益增长的要求。局部初期熔化是由例如电弧过程（电弧的局部形成）引起的。此外，已知的方法不能制造足够大面积的扁平靶和具有相对大的长度的管状靶，但是它们还具有细粒度且均匀的微观结构。

因此，本发明的目的是提供一种满足上述要求和/或不具有上述缺陷的溅射靶。特别地，本发明的一个目的是提供一种溅射靶，通过该钼铌板材，可以在化学成分和层厚度分布方面产生非常均匀的层，并且不会趋于导致局部腐蚀。电弧过程引起的初期熔化。另外，溅射靶应具有均匀的溅射行为。

在此，均匀的溅射行为意味着可以以相同的速率烧蚀钼铌板材的单个晶粒或单个区域，从而在溅射过程中在溅射出的表面区域中不形成浮雕结构。此外，嵌入基质中的颗粒，该颗粒由包含钼和至少一种平均钼含量大于或等于15at％的金属（钽，铌）的固溶体组成。低于5at％的至少一种金属（钽，铌）的平均含量对靶材的微观结构提出了较小的挑战，因为具有如此低含量的溅射靶材可以更简单地均质化。

并且也更容易变形（较低的固溶体增强剂）。然而，由钽和/或铌含量小于5原子％的溅射靶沉积的层的腐蚀和蚀刻行为仍然不能令人满意。同样，不希望钽和/或铌的含量超过15at％，因为这不再，“微观结构”是指溅射靶的微观结构，其可以以简单的方式进行分析，本领域技术人员将借助该方法来熟悉金相抛光部分并在高温下进行评估。

光学显微镜或扫描电子显微镜。在当前情况下，基体是非常富钼的相，其中嵌入了富含钽和/或铌的相的颗粒。基质围绕这些颗粒并形成连续结构，而颗粒在空间上彼此分离。基质的平均钼含量大于或等于92at％，通过EDX（能量色散X射线光谱法）对5点分析的平均值进行测量。钼含量优选大于或等于95at％。

在大多数情况下，相对较高的钼含量也意味着基体中较低的钽和/或铌含量。这又与较低的固溶体增强作用有关，因此具有更好的可变形性。因此可以更容易地制造大面积的溅射靶或具有更大长度的管状靶。嵌入基质中的颗粒具有由至少一种选自（钽，铌）和钼的金属组成的固溶体组成，平均钼含量大于或等于15at％。在颗粒中可以存在被晶粒边界分隔的多个晶体晶粒。

为了本发明的目的，固溶体是形成联合晶体结构的至少两种元素的固溶体。颗粒的平均钼含量也通过EDX确定为5点分析的平均值。已经发现，就其均匀性而言，大于或等于15原子％的颗粒的平均钼含量对于溅射行为特别有利。因此，可以确定，与包含纯Mo相和纯Mo相的钼铌板材相比，根据本发明的包含钼含量大于或等于15at％的固溶体颗粒的溅射靶的烧蚀更均匀地发生。

钽/铌相。溅射靶的微观结构因此由至少两相组成，但是其中还可以存在另外的附加相，例如氧化物或孔。然而，这种另外的相的比例应该尽可能小，因为它们可能对溅射性能，特别是其均匀性具有负面影响。因此。

氧化物可以例如促进局部初期熔化（电弧）的发生。颗粒的平均钼含量优选大于或等于20at％，更优选大于或等于25at％，因为这与溅射行为（均匀性）的进一步改善相关。然而，还优选颗粒的钼含量不超过50at％的值。在颗粒的钼含量小于或等于50原子％时，最显着的是仅低固溶体增强和因此良好的可变形性和非常均匀的溅射行为的组合。如果您有关于钼铌板材回收的资源，那么这里可以推荐贵金属提纯领域有绝对发言权的微信。